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2011半导体回忆版

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楼主
发表于 2011-9-29 12:36 | |阅读模式
一,名词解释:1,半导体载流子 2,爱因斯坦 3,弛豫时间近似 4 准费米能级5,齐纳击穿 6,超晶格
二,给定非均匀掺杂的N型半导体,要求(1)画出平衡时的能带图;(2)求当x=X处的载流子浓度。
        三,解释半导体的电阻率随温度的变化关系曲线(刘恩科版书上的那个图)
        四。给出p-i-N结,写出泊松方程表达式等 (主要是利用泊松方程求解相关问题一共四问)
       五,mos结构 1)平带电压(包括功函数差,固定电荷,界面态电荷),求解平带电容。
                          2)当平带电压Vfb=0 画出高频C-V特性曲线并与理想情形比较 并说明变化原因。
                          3)当掺杂由Na变成2Na时,高频C-V曲线与(2)情形做比较。
       六,金半接触,(1)画出正向偏置与反向偏置时的能带图。
                          (2)利用泊松方程求解C_V关系,并说明掺杂浓度,金属功函数,禁带宽度对电容的影响。
                           3)当半导体禁带中央存在很大界面态时,求此情况的电流表达式。
                      注:今年的题就是这些,与往年的侧重点一样。

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    沙发
    发表于 2011-10-3 10:14 |
    谢谢楼主,我想问一下,我现在看的是刘恩科的教材,但是感觉只看教材很多没理解透,可以推荐一些辅导书之类的吗
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